Cómo encontrar fugas de vacío, aire y gas más rápido en la fabricación de semiconductores


La fabricación de semiconductores depende de equipos de producción e infraestructura de servicios públicos estrictamente controlados. El aire seco comprimido (CDA), el nitrógeno y otra distribución de gases especializados, los controles neumáticos y los sistemas relacionados con el vacío se utilizan en entornos de fabricación y subfabricación. Con muchas válvulas, accesorios, reguladores, colectores y puntos de conexión, las pequeñas fugas pueden ser difíciles de localizar rápidamente durante la inspección de rutina.
Las fugas no detectadas pueden contribuir a un consumo innecesario de servicios públicos, un mayor costo operativo y un esfuerzo de mantenimiento adicional. En los sistemas relacionados con el vacío, las fugas no deseadas también pueden convertirse en una preocupación de los equipos o procesos. La detección eficiente de fugas ayuda a los equipos de mantenimiento en su trabajo diario y minimiza las interrupciones en las operaciones normales.
Los grifos semiconductores dependen de amplios sistemas de aire seco comprimido, nitrógeno, gas especializado, relacionados con el vacío y neumáticos. La detección oportuna de fugas puede ayudar a reducir las pérdidas de servicios públicos, mejorar el mantenimientoproductividad y respaldar operaciones de fabricación confiables.

Las inspecciones tradicionales de fugas pueden llevar mucho tiempo cuando los técnicos deben inspeccionar grandes áreas, trazar tuberías largas o trabajar alrededor de equipos empaquetados. En un entorno de fabricación o subfabricación, el desafío es localizar la fuente lo suficientemente rápido como para priorizar el seguimiento correcto o la acción de reparación. Las imágenes acústicas visualizan el sonido generado por una fuga, lo que ayuda a los técnicos a escanear múltiples puntos de fuga potenciales de manera rápida y eficiente.
Flir Si2-LD es una cámara de imágenes acústicas industrial para la detección de fugas presurizadas y la detección de fallas mecánicas. En la fabricación de semiconductores, puede respaldar la inspección de sistemas CDA, distribución de nitrógeno y gas especializado, gabinetes de gas, colectores de válvulas, controles neumáticos, sistemas relacionados con el vacío y otra infraestructura de servicios públicos donde podrían ocurrir fugas. En lugar de revisar los componentes minuciosamente y uno por uno, los técnicos pueden escanear grandes áreas y escanear grandes áreas, localizar rápidamente fugas, capturar instantáneas para informes y pasar a las acciones de mantenimiento requeridas. Gases como nitrógeno, amoníaco, helio y argón están respaldados para la tasa de fuga estimada y la cuantificación de costos. Si2-LD también es una solución eficiente para la detección de fugas de vacío.

Las imágenes acústicas deben utilizarse como parte del proceso de inspección y mantenimiento establecido del sitio. Las reglas de acceso, los requisitos de sala limpia, los procedimientos de seguridad, las condiciones operativas y las características del sistema objetivo deben considerarse antes de la inspección. La detectabilidad depende del tamaño de la fuga, la presión, la distancia, el ruido de fondo y otras condiciones del sitio. Los hallazgos deben informarse y seguirse mediante acciones de acuerdo con los procedimientos de la instalación y las capacidades aprobadas del equipo.